7月9日消息，国内半导体设备厂商至纯科技近日在互动平台表示，目前至纯科技的28 nm节点全部湿法工艺设备已认证。
芯片制造分为逻辑芯片设计、芯片代工、封装测试三大环节。芯片代工包括晶圆制造、曝光、刻蚀、清洗等过程。湿法清洗设备属于半导体供应链中的清洗环节。清洗是根据不同芯片工艺的要求，对硅晶圆表面进行无损清洗，清洗芯片制造过程中残留的颗粒、曝光和腐蚀过程形成的自然氧化层，以及金属污染、有机物、牺牲层、抛光残留物等杂质。清洁环节占芯片制造工艺步骤的30%以上，在芯片制造工艺步骤中，清洁环节所占比例。
至纯科技表示，目前国内有三家在湿法工艺设备端提供中湿法工艺设备，分别是至纯科技、北方华创和盛美，国内厂商的市场份额逐年上升。
信息显示，至纯科技成立于2000年，主营高纯工艺系统的研发、生产与销售；半导体湿法清洗设备的研发、生产与销售；光传感应用及相关光学元件的研发、生产和销售。业绩显示，至纯科技2020年湿法设备出货量超过30台，新增订单5.3亿元，增长211.8%。
除28nm工艺节点外，上海证券报还指出，到纯科技14nm和7nm工艺预计将在2022年得到客户的验证，包括中芯国际、华虹集团、长鑫存储、华为、台湾力晶等行业者。
值得注意的是，上个月，中国电子信息产业发展研究院电子信息研究所所长温晓君在一次采访中说：我国将在2022年底完成14纳米制程设备的突破，至纯科技将于2022年交付给华为、中芯国际认证的14纳米和7纳米清洗设备，这也在一定程度上提高了其可靠性。
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