中芯国际N+1代工艺将于2021年正式投产

2020-09-22 10:48:58 来源:每日科技网
        【每日科技网】
中芯国际N+1代工艺将于2021年正式投产

  中芯国际是大陆的晶圆代工厂,它的一举一动令人动容。

  最近有报道称,经过14nm工艺的大规模量产,中芯国际的N+1代工艺已进入了客户导入阶段,预计2021年可实现量产。

  作为回应,中芯国际表示,其第一代FinFET14nm工艺已在2019年第四季度投产,第二代FinFETN+1工艺已进入客户导入阶段,预计将在2020年底实现小批量试产。

  根据这一时间表推测,中芯国际N+1代工艺将于2021年正式投产。

  N+1是中芯国际为其第二代先进工艺设计的代号,但并没有明确的数字节点,只是表示N+2工艺与14nm工艺相比,性能提高了20%,功耗减少了57%,逻辑面积减少了63%,SoC面积减少了55%,之后N+2工艺的性能和成本有所提高。

  八月末,中芯国际曾表示,N+1工艺进展顺利,已进入客户产品验证阶段。

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